產(chǎn)品分類
立式爐
所屬分類：
產(chǎn)品展示
氧化/擴(kuò)散/退火爐
概要：
? 適用領(lǐng)域： ?集成電路、先進(jìn)封裝 Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging ? 適用材料: ?Si、SiC Suitable for Processing: Silicon (Si), Silicon Carbide (SiC) ?晶圓尺寸: ?12/8/6英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch ?適用工藝: ?氧化(Oxidation)、退火(Annealing)、固化(Polyimide)、合金(Alloy)、擴(kuò)散(Diffusion) Applicable Processes: ?Oxidation, Annealing, Polyimide Curing, Alloy, Diffusion
關(guān)鍵詞：
立式爐
立式爐
產(chǎn)品應(yīng)用 /Product Applications
♦ 適用領(lǐng)域： 集成電路、先進(jìn)封裝
Relevant Industries: Integrated Circuits, Advanced Packaging
♦ 適用材料: Si、SiC
Suitable for Processing: Silicon (Si), Silicon Carbide (SiC)
♦晶圓尺寸: 12/8/6英寸
Wafer Size: 12/8/6 inch
♦適用工藝: 氧化(Oxidation)、退火(Annealing)、固化(Polyimide)、合金(Alloy)、擴(kuò)散(Diffusion)
Applicable Processes: Oxidation, Annealing, Polyimide Curing, Alloy, Diffusion
技術(shù)指標(biāo)/Technical Parameters
♦ 制程溫度范圍：300°C-1200°C
Process Temperature Range: 300°C-1200°C
♦ 批次片數(shù): 100-150片
Batch Capacity: 100-150 pcs
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